Dotierungsverfahren
Das Einbringen der Phosphor- und Aluminiumatome in einen Siliziumwafer, die Dotierung, belastet den Wafer ebenfalls erheblich. Zunächst werden die Wafer und Phosphoroxychlorid auf
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Selektive Dotierung
Effizienter wird eine Solarzelle, wenn die n-Dotierung auf der Fläche sehr wenige Phosphoratome enthält. Nur unter den Kontaktlinien, die später den Strom aus der Solarzelle ableiten, schmilzt ein Infrarotlaser das Silizium tiefer auf, sodass dort eine tiefere n-Dotierung entsteht, die mehr Phosphoratome enthält und deshalb auch mehr Strom leiten kann. Dieser Prozess heißt selektive Dotierung.
(55 von 387 Wörtern)Quellenangabe
Brockhaus,
Dotierungsverfahren.
http://brockhaus.at/ecs/julex/article/fotovoltaik/dotierungsverfahren